ld型智能电磁流量计

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可由内置电池供电，使用时间自出厂后两年以上。2.流量计需要流量脉冲信号输出时，需外电源供电，供电电压+24VDC。3.流量计需要4-20mA电流信号输出时，需加+24VDC外电源。4.流量计需要RS485数据通讯时，需加+24VDC电源。欠压指示电池更换方法1）欠压指示：积算仪中的CPU不断地检测内部电池电压，当液晶上电池符号闪烁时，表示电池电压已低于2.5Ｖ，用户需在３０天内更换电池，在此段时间内，系统仍能正常工作。２）电池更换方法：打开表头后盖，取出电池，装上新电池时，按红线接正极，黑接负极。警告：更换电池时不能将电池引线短路，否则引起安全问题。６．２流量计参数设置功能：０．８－３０ＫＨｚ等精度测频。
(ld型智能电磁流量计)

电极的选择
CYLD系列电磁流量计仪表选型
◆量程范围确认
一般工业用电磁流量计被测介质流速以2～4m/s为宜，在特殊情况下，最低流速应不小于0.2m/s，最高应不大于8m/s。若介质中含有固体颗粒，常用流速应小于3m/s，防止衬里和电极的过分磨擦；对于粘滞流体，流速可选择大于2m/s，较大的流速有助于自动消除电极上附着的粘滞物的作用，有利于提高测量精度。
在量程Q已确定的条件下，即可根据上述流速V的范围决定流量计口径D的大小，其值由下式计算：
Q:流量（㎡/h）D:管道内径V：流速（m/h）
电磁流量计的量程Q应大于预计的最大流量值，而正常的流量值以稍大于流量计满量程刻度的50为宜。
(ld型智能电磁流量计)

净水厂、污水厂工艺与设备手册 出版时间：2011年版 内容简介 《净水厂、污水厂工艺与设备手册》是一本全面介绍净水厂、污水厂工艺与设备的手册，全书共分三篇，内容包括：净水厂的工艺与设备，主要介绍了常规处理、预处理、臭氧活性炭深度处理、除铁除锰除氟、超滤微滤的工艺与设备；污水处理厂的工艺与设备，主要介绍了传统法、ANO、APO、A2O、SBR、氧化沟、稳定塘、MBR法、生物膜法的工艺与设备；通用设备，不仅包括各种工艺配套的专用设备，还包括其他主要通用设备。《净水厂、污水厂工艺与设备手册》图文并茂地介绍了各种设备的外形尺寸、性能参数以及安装注意事项，并配有不同类型的工艺选择、计算与设备选型的工程案例，实用性强。《净水厂、污水厂工艺与设备手册》可供市政工程、环境工程专业的科研人员、工程设计人员和管理人员参考，也可供高等院校相关专业师生参阅。 目录 第一篇净水厂工艺与设备 第1章净水厂工艺与设备概述 第2章常规处理工艺 2.1主要工艺及流程 2.1.1针对常温常浊水处理工艺 2.1.2针对常温低浊水处理工艺 2.1.3针对低温低浊水处理工艺 2.1.4针对高浊水处理工艺 2.1.5针对低浊高藻水处理工艺 2.1.6针对高浊高藻水处理工艺 2.2单元构筑物及主要设备 2.2.1取水工程 2.2.2配水溢流井 2.2.3混合 2.2.4絮凝 2.2.5沉淀 2.2.6澄清 2.2.7气浮 2.2.8过滤 2.2.9消毒 2.2.10加药间 2.2.11配水泵房 2.2.12污泥处理系统 2.3主要设备 2.3.1拦污设备 2.3.2混合设备 2.3.3絮凝设备——搅拌机 2.3.4沉淀池设备——排泥设备 2.3.5澄清池设备 2.3.6气浮设备 2.3.7消毒设备 2.3.8加药设备 2.3.9浓缩脱水设备 2.3.10其他通用设备 第3章预处理工艺 3.1主要工艺 3.2单元构筑物及设备 3.2.1预沉 3.2.2生物预处理 3.2.3化学预氧化 3.2.4粉末活性炭吸附（应急） 3.2.5磁分离预处理技术MIEX 3.3主要设备 3.3.1除砂机 3.3.2预氯氧化设备 3.3.3臭氧设备 3.3.4粉末炭投加设备 3.3.5其他通用设备 第4章臭氧活性炭深度处理工艺 4.1主要工艺 4.1.1工艺简介 4.1.2主要工艺流程 4.2单元构筑物及设备 4.2.1臭氧化法工艺系统 4.2.2活性炭吸附池 4.2.3其他构筑物 4.2.4臭氧活性炭工艺设计中应注意的问题 4.3主要设备 4.3.1氧氧化塔 4.3.2臭氧曝气头 4.3.3其他通用设备 第5章除铁、除锰除氟工艺 5.1主要工艺 5.1.1工艺简介 5.1.2除铁工艺 5.1.3除锰工艺 5.1.4除铁除锰工艺 5.1.5地下水含氟超标除氟工艺 5.2单元构筑物及设备 5.2.1曝气的要求 5.2.2除铁除锰滤池 5.3主要设备 5.3.1曝气设备 5.3.2成套设备 第6章超、微滤膜过滤技术 6.1综述 6.2超滤膜处理单元 6.3工艺流程组合 6.4膜法在给水处理中的效果 6.5设备及仪表 6.5.1超滤膜组件 6.5.2微滤膜组件 第7章其他处理工艺单元 7.1主要工艺 7.1.1离子交换技术 7.1.2纳滤 7.1.3反渗透 7.1.4电渗析 7.1.5高级氧化技术 7.2单元构筑物及设备 7.3主要设备 7.3.1阴、阳离子交换器 7.3.2纳滤膜 7.3.3反渗透膜 7.3.4电渗析器 7.3.5诺氏高级氧化系统及设备 第8章设备选型案例分析 8.1北方地区某水厂设计案例 8.1.1项目背景 8.1.2水源及水质情况 8.1.3主要工程内容 8.1.4取水部分主要构筑物设计参数及设备选型 8.1.5净水厂部分主要构筑物设计参数及设备选型 8.2南方地区某水厂设计案例 8.2.1项目概况 8.2.2水源及水质情况 8.2.3主要工程内容 8.2.4主要构筑物设计参数及设备选型 第二篇污水处理厂工艺与设备 第1章污水处理厂工艺与设备概述 1.1活性污泥法 1.1.1传统法工艺流程 1.1.2ANO法工艺流程 1.1.3APO法工艺流程 1.1.4A2O法工艺流程 1.1.5传统法及其变法工艺对应设备 1.1.6SBR工艺流程 1.1.7SBR工艺对应设备 1.1.8氧化沟工艺流程 1.1.9氧化沟工艺对应设备 1.1.10稳定塘工艺流程 1.1.11稳定塘工艺对应设备 1.1.12MBR工艺流程 1.1.13MBR工艺对应设备 1.2生物膜法 1.2.1生物接触氧化工艺流程 1.2.2生物接触氧化工艺对应设备 1.2.3曝气生物滤池工艺流程 1.2.4曝气生物滤池工艺对应设备 1.2.5生物转盘工艺流程 1.2.6生物转盘工艺对应设备 1.2.7高负荷生物滤池工艺流程 1.2.8高负荷生物滤池工艺对应设备 第2章预处理工艺与设备 2.1格栅工艺与设备 2.1.1格栅工艺描述、设计要点及计算 2.1.2格栅主要设备 2.2进水泵房工艺与设备 2.2.1进水泵房工艺描述、设计要点及计算 2.2.2进水泵房主要设备 2.3沉砂池工艺与设备 2.3.1平流沉砂池工艺描述、设计要点及计算 2.3.2平流沉砂池主要设备 2.3.3竖流沉砂池工艺描述、设计要点及计算 2.3.4竖流沉砂池主要设备 2.3.5曝气沉砂池工艺描述、设计要点及计算 2.3.6曝气沉砂池主要设备 2.3.7旋流沉砂池工艺描述、设计要点及计算 2.3.8旋流沉砂池主要设备 第3章沉淀处理工艺与设备 3.1初次沉淀池工艺与设备 3.1.1平流式沉淀池工艺描述、设计要点及计算 3.1.2平流式沉淀池主要设备 3.1.3竖流式沉淀池工艺描述、设计要点及计算 3.1.4竖流式沉淀池主要设备 3.1.5辐流式沉淀池工艺描述、设计要点及计算 3.1.6辐流式沉淀池主要设备 3.2二次沉淀池工艺与设备 3.2.1二次沉淀池工艺描述、设计要点及计算 3.2.2二次沉淀池主要设备 第4章生物处理工艺与设备 4.1活性污泥法工艺与设备 4.1.1传统法工艺描述、设计要点及计算 4.1.2传统法主要设备 4.1.3ANO（缺氧/好氧生物脱氮）法工艺描述、设计要点及计算 4.1.4ANO（缺氧/好氧生物脱氮）法主要设备 4.1.5APO（缺氧/好氧生物脱氮）法工

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